大连依利特 Supersil AQ-C18 液相色谱柱 *的表面处理技术，确保硅胶表面的均一性和惰性 极低的金属离子含量（≤10ppm） 多次封尾技术，Z大限度的消除残余硅羟基 更强的酸、碱耐受性（pH值:1.5~10.0） 较强的分离能力 的批次重现性

大连依利特 Supersil NH2 液相色谱柱 *的表面处理技术，确保硅胶表面的均一性和惰性 极低的金属离子含量（≤10ppm） 多次封尾技术，Z大限度的消除残余硅羟基 更强的酸、碱耐受性（pH值:1.5~10.0） 较强的分离能力 的批次重现性

大连依利特Supersil Phenyl 液相色谱柱 *的表面处理技术，确保硅胶表面的均一性和惰性 极低的金属离子含量（≤10ppm） 多次封尾技术，Z大限度的消除残余硅羟基 更强的酸、碱耐受性（pH值:1.5~10.0） 较强的分离能力 的批次重现性

大连依利特Supersil SiO2 液相色谱柱 *的表面处理技术，确保硅胶表面的均一性和惰性 极低的金属离子含量（≤10ppm） 多次封尾技术，Z大限度的消除残余硅羟基 更强的酸、碱耐受性（pH值:1.5~10.0） 较强的分离能力 的批次重现性

大连依利特Supersil SCX 液相色谱柱 *的表面处理技术，确保硅胶表面的均一性和惰性 极低的金属离子含量（≤10ppm） 多次封尾技术，Z大限度的消除残余硅羟基 更强的酸、碱耐受性（pH值:1.5~10.0） 较强的分离能力 的批次重现性

大连依利特 Supersil CN 液相色谱柱 *的表面处理技术，确保硅胶表面的均一性和惰性 极低的金属离子含量（≤10ppm） 多次封尾技术，Z大限度的消除残余硅羟基 更强的酸、碱耐受性（pH值:1.5~10.0） 较强的分离能力 的批次重现性

大连依利特Supersil C4 300A 液相色谱柱 *的表面处理技术，确保硅胶表面的均一性和惰性 极低的金属离子含量（≤10ppm） 多次封尾技术，Z大限度的消除残余硅羟基 更强的酸、碱耐受性（pH值:1.5~10.0） 较强的分离能力 的批次重现性

大连依利特Supersil 120Å C4 液相色谱柱 *的表面处理技术，确保硅胶表面的均一性和惰性 极低的金属离子含量（≤10ppm） 多次封尾技术，Z大限度的消除残余硅羟基 更强的酸、碱耐受性（pH值:1.5~10.0） 较强的分离能力 的批次重现性